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J-GLOBAL ID:200903037042221844

ポジ型感光性組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 萩野 平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996292715
Publication number (International publication number):1998133378
Application date: Nov. 05, 1996
Publication date: May. 22, 1998
Summary:
【要約】【課題】 感度を劣化させることなく、高解像力を有し、更に露光後から加熱処理までの経時により、レジストパターン表面の形状がT型(T-top)を呈さず、且つ線幅変化が少ないポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線または放射線の照射によりスルホン酸を発生する特定の構造のイミドスルホネート化合物、及び酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt):
(A)活性光線または放射線の照射によりスルホン酸を発生する下記一般式(I)で示されるイミドスルホネート化合物、及び(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式(I)中、Yは、【化2】で表わされる基を示す。Xは置換されていてもよいアルキレン基、ヘテロ原子を含んでいてもよく、置換されていてもよい単環または多環シクロアルキレン基、置換されていてもよいアリーレン基、又は置換されていてもよいアルケニレン基を示し、またそれらは他のスルホニルオキシイミド残基に結合してもよい。nは0〜10の整数を示す。R1 〜R21は同一でも異なってもよく、水素原子、直鎖、分岐あるいは環状アルキル基、ハロゲン原子、パーフロロアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシロキシ基、ホルミル基、ニトロ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アリール基又はアルコキシカルボニル基を示し、それらは他のスルホニルオキシイミド残基に結合してもよい。但し、R1 〜R5 、R6 〜R12及びR13〜R21のうち各々少なくとも1つはアルコキシ基であり、R1〜R5 、R6 〜R12及びR13〜R21の各置換基の炭素数の和が2以上である。
IPC (3):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

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