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J-GLOBAL ID：200903037077719390

閉空洞LEDとその製造方法

Inventor： マイケル・エス・レビー ,  チャン・ロン・シェ ,  クレイ・エー・ガオ
Applicant, Patent owner： モトローラ・インコーポレイテッド
Agent (1)： 本城 雅則 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994085235
Publication number (International publication number)：1994326353
Application date： Apr. 01, 1994
Publication date： Nov. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 両端に導電層(14,18)を有する短い空洞LED(14から18)を形成する段階を含めた閉空洞LEDを、基板(12)の上に製造する方法。【構成】 一つの導電層(18)の上に透明導電材料層(20)を蒸着し、ガラス(25)またはダイアモンド膜を透明導電層(20)の上に付着して、光出力領域を画定し保護する。基板(12)を除去して、誘電材料(27)および接点金属(30,32)により空洞の上部および側面を被覆する。接点金属は、透明導電層(20)ともう一つの電気接点層(14)と接触する。このため、反射体は、外部効率性を増大するために、光出力領域を除く全方向において空洞を被覆する。

Claim (excerpt)：

閉空洞LEDを製造する方法であって:主表面を有する第1基板(12)を設ける段階;前記第1基板の前記主表面の上に複数の材料層(14から18)を蒸着して、LEDを形成する段階であって、前記複数の層は2つの導電層(14,18)を有して蒸着され、前記2つの導電層のうち第1導電層14は、前記第1基板(12)の前記主表面に接してその上に位置する形で、前記複数の層(14から18)の一方の側面の上に形成され、前記2つの導電層のうち第2導電層(18)は前記複数の層(14から18)の反対側の側面の上に形成され、前記第2導電層はさらに発光領域を画定する段階;実質的に光を透過する導電材料層(20)を、前記発光領域に対し上に位置する形で、また前記第2導電層と電気的に接触する形で、前記第2導電層(18)の上に蒸着する段階;保護的光透過基板(25)を、前記透明導電層(20)に対し上に位置する形で固着する段階;前記第1基盤(12)を除去して、前記第1導電層(14)を露出する段階;前記複数材料層(14から18)の一部を除去し、これによりLEDの側面が画定される段階;誘電材料層(27)を、前記LEDの側面の上に、また前記第1導電層(14)および前記透明導電層(20)の露出部分の上に位置する形で蒸着する段階;第1および第2接点領域(30,32)の開口部を、前記誘電材料層(27)を貫通して、それぞれ前記第1導電層(14)および前記透明導電材料層(20)に達するまで設ける段階;および、電気接点材料層(30,32)を、前記誘電材料層(27)の上に、また前記第1導電層(14)および透過導電材料層(20)と接触する前記開口部の第1および第2接点領域(30,32)の中に蒸着して、前記LEDの第1および第2外部電気接点(30,32)を形成し、前記発光領域を除く前記LEDの全側面の上に反射体を形成する段階;によって構成される製造方法。