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J-GLOBAL ID：200903037088668207

ラジカル処理装置

Inventor： 飯島 崇文 ,  小林 伸次 ,  江幡 享 ,  久保 貴恵 ,  村田 隆昭 ,  沖田 裕二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (8)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005002932
Publication number (International publication number)：2006187743
Application date： Jan. 07, 2005
Publication date： Jul. 20, 2006
Summary：

【課題】低電力での放電を利用したラジカル処理を実現する実用化に適したラジカル処理装置を提供することにある。【解決手段】水槽2内の処理対象水20に対して、放電用電極1から発生する放電によりラジカル処理を行なうラジカル処理装置において、放電用電極1は、円錐形状のように鋭角形状に加工された少なくとも1個以上の突起部材10を有し、当該突起部材10の先端部から放電を行なう。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

処理対象物に対してラジカル処理するためのラジカル処理装置において、 ラジカル処理用ガスを導入する手段と、 放電用高電圧を発生する電源と、 前記ラジカル処理用ガス中で前記放電用高電圧に応じた放電を行なう少なくとも1個以上の突起部材を有する放電用電極と を具備したことを特徴とするラジカル処理装置。

IPC (2)：

C02F 1/78 ,  C02F 1/48

FI (2)：

C02F1/78 ,  C02F1/48 B

F-Term (20)：

4D050AA12 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BD04 ,  4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC08 ,  4D061EA13 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB14 ,  4D061EB16 ,  4D061EB26 ,  4D061EB33 ,  4G042CA01 ,  4G042CC04 ,  4G042CC06 ,  4G042CC08 ,  4G042CC16 ,  4G042CE04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• コロナ放電を利用した浄化方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-248037   Applicant：株式会社姫科エンジニアリング
• 反応性ガスを用いた物質処理方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-273255   Applicant：株式会社安川電機
• 反応性ガスの発生方法およびその発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-273254   Applicant：株式会社安川電機
• 廃水の浄化処理方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-097177   Applicant：太陽化学工業株式会社

Cited by examiner (1)

• 反応性ガスを用いた物質処理方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-273255   Applicant：株式会社安川電機