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J-GLOBAL ID：200903037103235444

共焦点顕微鏡の機器配置調整のための方法およびシステム構成

Inventor： ホルゲル ヴィーデルヘフト (原語表記)Holger Wiederhoeft
Applicant, Patent owner： カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Agent (1)： 松田 省躬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999127869
Publication number (International publication number)：2000039563
Application date： May. 10, 1999
Publication date： Feb. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】共焦点顕微鏡、特に単一又は複数のスペクトル線を持つレーザ光を生成し、蛍光染料を含む、又は蛍光染料の塗布された試料(16)にそのレーザ光を照準、照射するレーザ走査顕微鏡の機器配置調整を正確に、簡単に行う方法。【解決手段】さまざまな蛍光染料の励起波長および放出波長を別々のデータファイルに記録し、データ記憶装置(34)に保存し、また、顕微鏡による調整が可能な、試料(16)への照射用レーザスペクトルおよび装備フィルタで得られる透過スペクトルも同様にデータファイルに記録し、保存して、これらデータファイルの計算加工から、顕微鏡配置調整のためのプリセットデータを求める。

Claim (excerpt)：

さまざまな蛍光染料の励起波長や放出波長および調整可能なレーザスペクトルやフィルタ透過スペクトルが、別々のデータファイルに記録され、データ記憶装置に保存されていて、それらデータファイルを組み合わせた計算加工から顕微鏡プリセットデータを求めることを特徴とする、少なくとも一つの蛍光染料を含む、又は少なくとも一つの蛍光染料の塗布された試料に対し、それぞれ蛍光染料の励起波長に相応する照射光のレーザスペクトルを選択して、またその透過スペクトルが蛍光染料の放出波長に相応する顕微鏡光路への転向用光学フィルタを選択して行う検査の前又は検査の途中における共焦点レーザ顕微鏡の配置調整のための方法

IPC (3)：

G02B 21/16 ,  G01B 9/04 ,  G01N 21/64

FI (3)：

G02B 21/16 ,  G01B 9/04 ,  G01N 21/64 E

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 顕微鏡システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-324478   Applicant：オリンパス光学工業株式会社

Cited by examiner (1)

• 顕微鏡システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-324478   Applicant：オリンパス光学工業株式会社