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J-GLOBAL ID：200903037131080960

サブ開口アドレス指定光ビーム・ステアリング装置におけるビーム・ステアリング方法

Inventor： テリー・エイ・ドーシユナー
Applicant, Patent owner： レイセオン・カンパニー
Agent (1)： 湯浅 恭三 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992043413
Publication number (International publication number)：1993066427
Application date： Feb. 28, 1992
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 光学フェーズド・アレイ・ビーム・ステアリング装置の動作に必要な非常に多数の高密度の移相器を電気的にアドレス指定する方法を提供する。【構成】 並列動作する複数の同一サブアレイ38に分割された多数の移相器を含むサブアレイ・アドレス指定ビーム・ステアリング装置を用い、各サブアレイを複数の周期に分割し、各周期に階段状波形電圧26aを印加して所望の方向にビームを指向させる。

Claim (excerpt)：

並列動作される複数の同一サブアレイに分割された多数の移相器を含むサブアレイ・アドレス指定ビーム・ステアリング装置を用いる入射電磁ビームをステアリングする方法において、a.各サブアレイを複数の周期に等しく細分割し、b.各周期の移相器に与えられる電圧の階段波形を結果として生じるように各サブアレイの前記移相器に電圧を印加する、ステップを含む方法。

IPC (3)：

G02F 1/29 ,  G01S 7/48 ,  G01S 7/50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭57-101822
  
• 特開平4-057635
  
• 特表平1-500697
  
• 特許第4115747号