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J-GLOBAL ID：200903037137270672

フォトレジスト剥離剤組成物

Inventor： 佐藤 嘉高 ,  西嶋 佳孝 ,  塩津 信一郎
Applicant, Patent owner： ナガセ電子化学株式会社
Agent (1)： 塩出 真一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993338929
Publication number (International publication number)：1995160009
Application date： Dec. 01, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 アルキルアミン、又はアルキルアミンと極性有機溶剤との混合物を主成分とするフォトレジスト剥離剤に、一般式(1)で表わされるアルキン化合物及び一般式((II))で表わされるアルキン化合物の少なくとも1種1〜80重量%と、水3〜40重量%を添加してなるフォトレジスト剥離剤組成物。(式中、R1、R2、R3、R4はH、ハロゲン、ハイドロキシ基、アミノ基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数1〜5のハイドロキシアルキル基、又は炭素数1〜5のアミノアルキル基を示す。)(式中、R5、R6、R7、R8、R9はH、ハロゲン、ハイドロキシ基、アミノ基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数1〜5のハイドロキシアルキル基、又は炭素数1〜5のアミノアルキル基を示す。)【効果】 引火せず、かつ、下地金属の浸食が少なく、しかも、フォトレジストに対する剥離力の大きいフォトレジスト剥離剤組成物を提供することができる。

Claim (excerpt)：

アルキルアミン、又はアルキルアミンと極性有機溶剤との混合物を主成分とするフォトレジスト剥離剤、一般式化1で表わされるアルキン化合物(I)及び一般式化2で表わされるアルキン化合物(II)の少なくとも1種並びに水を主成分とすることを特徴とするフォトレジスト剥離剤組成物。【化1】【化2】

IPC (2)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027