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J-GLOBAL ID:200903037146483085
スパッタ用プラズマ発生アクティブシールド
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 芳樹 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997312570
Publication number (International publication number):1998183342
Application date: Oct. 08, 1997
Publication date: Jul. 14, 1998
Summary:
【要約】【課題】 半導体製造システムにおけるプラズマチャンバ用のコイルとシールドの組合せを提供する。【解決手段】 コイルシールドは、エネルギーを効率的にプラズマに結合するために複数の巻きを持つと共に、第1シールドの背後に配置された第2シールドに堆積材料が到達するのを実質上阻止する。
Claim (excerpt):
ソースからのエネルギーをプラズマ内に結合するための装置であって、ターゲットと、基板ホルダと、前記ターゲットと前記基板ホルダとの間のプラズマ発生区域と、自身に、隔てられた複数のコイルワインディングを更に画成するように、チャンネルを画成する導電第1シールド壁であって、前記導電第1シールドコイルワインディングは、前記ソースに結合して前記導電第1シールドコイルワインディングからのエネルギーを前記プラズマ発生区域内に放射する、前記導電第1のシールド壁とを備える装置。
IPC (5):
C23C 14/34
, C23C 14/00
, H01L 21/02
, H01L 21/203
, H01L 21/285
FI (5):
C23C 14/34 C
, C23C 14/00 B
, H01L 21/02 Z
, H01L 21/203 S
, H01L 21/285 S
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