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J-GLOBAL ID：200903037160687890

基板処理装置

Inventor： 上山 勉
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 小野 由己男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994295410
Publication number (International publication number)：1996153767
Application date： Nov. 29, 1994
Publication date： Jun. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】 基板の持ち替えを占有床面積(フットスペース)を小さく維持して行えるようにする。【構成】 基板処理装置は、基板を1枚ずつ処理する装置であって、基板を洗浄するスピンスクラバSS、基板にレジスト液を塗布するスピンコータSC、基板Wの端縁を洗浄するエッジリンスER、露光済の基板Wを現像するスピンディベロッパSD及び他の装置と基板Wをやり取りするインターフェイス部IFを含む複数の処理部を有する処理ユニット部3と、スピンコータSCとエッジリンスERとの間で基板Wを搬送する基板搬送ロボットRB2及びエッジリンスERとインターフェイス部IFとの間で基板Wを搬送する基板搬送ロボットRB3を有する基板搬送部4と、エッジリンスERに設けられた基板受渡し部EXとを備え、基板受渡し部EXで基板搬送ロボットRB2と基板搬送ロボットRB3との基板Wの持ち替えを行う。

Claim (excerpt)：

基板を1枚ずつ処理する基板処理装置において、所定の方向に配列され、それぞれ基板に対して所定の処理を行う第1,第2及び第3基板処理手段と、第1基板処理手段と第2基板処理手段との間で基板を搬送する第1基板搬送手段と、第2基板処理手段と第3基板処理手段との間で基板を搬送する第2基板搬送手段と、第1基板搬送手段によって第2基板処理手段に搬入された基板を第2基板搬送手段によって搬出するとともに、第2基板搬送手段によって第2基板処理手段に搬入された基板を第1基板搬送手段によって搬出するように第1及び第2基板搬送手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (7)：

H01L 21/68 ,  B05C 11/08 ,  B05C 13/00 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341