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J-GLOBAL ID：200903037191798720

汚染物質の処理方法及び処理装置

Inventor： カピラ ムケッシュ ,  小野 紘一 ,  ベノワ ジャック
Applicant, Patent owner： サンキット環境開発株式会社
Agent (1)： 前田 弘 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999027160
Publication number (International publication number)：2000225387
Application date： Feb. 04, 1999
Publication date： Aug. 15, 2000
Summary：

【要約】【課題】 不活性の基質材から汚染物質を分離する際に、処理すべき基質材に対する熱伝達を最大限にして処理時間を最小にし、さらに処理チャンバーの熱膨張の影響を少なくする。【解決手段】 基質材取り入れ口と基質材取出し口とを有する本質的に気密の処理チャンバー40を吊り下げ式に構成し、該チャンバー40に、基質材を処理するための2以上の溝部48a,48bを設ける。そして、チャンバー40を間接的に加熱するヒータと、基質材を基質材取り入れ口から基質材取出し口へチャンバーの2以上の溝部48a,48bを通じて移動させるためのオーガー52a,52bと、汚染物質を除去して復元する処理のためにチャンバー40から蒸気を排出するための蒸気凝縮処理システムとを設ける。

Claim (excerpt)：

不活性の基質材から汚染物質を分離する装置であって、基質材取り入れ口と基質材取出し口とを有する本質的に気密で吊り下げられた処理チャンバーを有し、該チャンバーは、基質材を処理するための2以上の溝部を有し、チャンバーを間接的に加熱する手段と、基質材を基質材取り入れ口から基質材取出し口へチャンバーの2以上の溝部を通じて移動させる手段と、汚染物質を除去して復元する処理のためにチャンバーから蒸気を排出する蒸気凝縮処理システムと、を備えている装置。

IPC (3)：

B09C 1/06 ,  B01J 19/30 ,  C02F 11/12 ZAB

FI (3)：

B09B 3/00 303 P ,  B01J 19/30 ,  C02F 11/12 ZAB A

F-Term (30)：

4D004AA41 ,  4D004AB03 ,  4D004AB05 ,  4D004AB07 ,  4D004CA27 ,  4D004CA32 ,  4D004CB04 ,  4D004CB24 ,  4D004CB28 ,  4D004CB32 ,  4D004CB34 ,  4D004CB42 ,  4D004CB43 ,  4D059AA12 ,  4D059AA18 ,  4D059BD11 ,  4D059BD21 ,  4D059BJ02 ,  4D059CA14 ,  4D059CB06 ,  4D059CB07 ,  4G075AA37 ,  4G075BB02 ,  4G075CA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC13 ,  4G075ED03 ,  4G075ED09