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J-GLOBAL ID：200903037196857431

テストパターンが形成されたレチクル

Inventor： 宮井 恒夫 ,  今井 裕二
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997055011
Publication number (International publication number)：1998254123
Application date： Mar. 10, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】ベストフォーカス位置を短時間にバラツキなく求めることができるレチクルおよび焦点位置の検出方法を提供する。【解決手段】レチクルRには、レチクルステージRSに載置されたときに感応基板Wとの距離がそれぞれ異なるように階段状に複数の階段面52A〜52Gを形成し、その階段面52A〜52Gのそれぞれにテストパターン53を構成するフォーカスマーク53A〜53Gを形成する。レチクルTRを感応基板W上に一括露光し、感応基板Wに露光されたテストパターン53Wを現像し、現像されたテストパターン53Wを計測し、計測結果に基づいて、テストパターン53Wが形成されているどのマーク形成領域52A〜52Gが最適な焦点位置であるかを判定する。

Claim (excerpt)：

レチクルステージに載置され、感応基板上にテストパターンを投影露光して露光装置の焦点位置を検出することができるレチクルにおいて、レチクルステージに載置されたときに前記感応基板との距離がそれぞれ異なるように階段状に複数の階段面が形成され、その階段面のそれぞれに前記テストパターンを構成するフォーカスマークが形成されていることを特徴とするレチクル。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 1/08 N ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 522 Z ,  H01L 21/30 525 D