Pat

J-GLOBAL ID：200903037220457946

光ビーム変調装置

Inventor： 齊藤 登 ,  西山 政孝 ,  高野 正寿 ,  吉成 隆明 ,  根岸 清
Applicant, Patent owner： 旭光学工業株式会社
Agent (1)： 松浦 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998052894
Publication number (International publication number)：1999231249
Application date： Feb. 18, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】 光ビームの変調を簡易に行う。【解決手段】 レーザダイオード駆動回路12の出力信号に基づいてレーザダイオード11から光ビームB1が出射される。光ビームB1をコリメートレンズ30により平行光とし光反射手段であるDMD20に導く。DMD20にマトリックス状に設けられた各マイクロミラーをオンオフ制御し、適宜第1または第2の傾斜方向に傾斜させることにより、シリンドリカルレンズ40を介してポリゴンミラー50に導かれる光ビームB2の強度を変調する。

Claim (excerpt)：

光源から出射された光ビームを光偏向器により偏向させて走査させることにより所定の情報を感光部材に書き込む光走査装置において、前記光源と前記光偏向器の間の前記光ビームの光路上に、入射光を第1の方向に反射させるオン状態と第2の方向に反射させるオフ状態とを選択的に設定可能な複数の光反射要素を有する光反射手段を配設することにより、前記光ビームの強度を変調することを特徴とする光ビーム変調装置。

IPC (5)：

G02B 26/10 102 ,  G02B 26/10 ,  G02B 26/10 107 ,  G02B 26/02 ,  B41J 2/44

FI (5)：

G02B 26/10 102 ,  G02B 26/10 A ,  G02B 26/10 107 ,  G02B 26/02 E ,  B41J 3/00 D