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J-GLOBAL ID：200903037229547042

永久パターン形成方法

Inventor：
高柳 丘

About 高柳 丘

, 
若田 裕一

About 若田 裕一

, 
石川 弘美

About 石川 弘美

, 
下山 裕司

About 下山 裕司


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (2)： 廣田 浩一 ,  流 良広
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005054488
Publication number (International publication number)：2005311305
Application date： Feb. 28, 2005
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：
【課題】 感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、パッケージ基板を含むプリント配線基板分野における永久パターン(絶縁膜、ソルダーレジストパターンなどの保護膜)を高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法の提供。 【解決手段】 バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、を少なくとも含む感光性組成物を用いて基材の表面に感光層を形成した後、該感光層に対し、 光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法である。該非球面は、トーリック面であるのが好ましい。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、を少なくとも含む感光性組成物を用いて基材の表面に感光層を形成した後、該感光層に対し、 光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
IPC (4)：
H01L21/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/24
FI (5)：
H01L21/30 529 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/09 501 ,  G03F7/24 Z
F-Term (27)：
2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA14 ,  2H025CA18 ,  2H025CA28 ,  2H025CA31 ,  2H025CA48 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H025DA01 ,  2H025DA19 ,  2H025DA20 ,  2H025FA29 ,  2H097AA03 ,  2H097AB08 ,  2H097BA10 ,  2H097CA17 ,  2H097LA09 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046CB02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (4)
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