Pat
J-GLOBAL ID:200903037232163875
スチレン基を有するUV吸収ベンゾトリアゾール
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中村 稔 (外6名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1994523545
Publication number (International publication number):1996509227
Application date: Apr. 22, 1994
Publication date: Oct. 01, 1996
Summary:
【要約】紫外線吸収ポリマーを調製する反応性モノマーは、式(I)を有する(式中、R1は、ハロゲン又はC1-C6の直鎖もしくは分岐鎖のアルコキシ基であり、R2は、-(CH2)3O-、-(CH2)2O-、-CH(CH3)CH2O-、-CH2CH(CH3)O-、-(CH2)3OCH2-、-(CH2)2OCH2-、-CH(CH3)CH2OCH2-、又は-CH2CH(CH3)OCH2-基である。)。この化合物は、コンタクトレンズ及び眼内レンズを含む光学装置に用いるような紫外線吸収ポリマーを製造するのに用いることができる。
Claim (excerpt):
以下の式を有する化合物。 (式中、R1は、ハロゲン又はC1-C6の直鎖もしくは分岐鎖のアルコキシ基であり、R2は、-(CH2)3O-、-(CH2)2O-、-CH(CH3)CH2O-、-CH2CH(CH3)O-、-(CH2)3OCH2-、-(CH2)2OCH2-、-CH(CH3)CH2OCH2-、又は-CH2CH(CH3)OCH2-基である。)
IPC (15):
C07D249/20 503
, C08F210/00 MJR
, C08F212/14 MJY
, C08F220/10 MLZ
, C08F226/10 MNN
, C08F230/08 MNU
, C08F236/10 MPF
, C08F271/02
, C08F293/00 MRC
, C08G 18/00 NGB
, C08G 65/26 NQN
, C08G 65/40 NQW
, C08G 69/00 NRB
, C08K 5/3475 KBM
, C09K 3/00 104
FI (15):
C07D249/20 503
, C08F210/00 MJR
, C08F212/14 MJY
, C08F220/10 MLZ
, C08F226/10 MNN
, C08F230/08 MNU
, C08F236/10 MPF
, C08F271/02
, C08F293/00 MRC
, C08G 18/00 NGB
, C08G 65/26 NQN
, C08G 65/40 NQW
, C08G 69/00 NRB
, C08K 5/3475 KBM
, C09K 3/00 104 C
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