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J-GLOBAL ID：200903037281989169

蛍光X線分析方法および該方法に使用する装置

Inventor： 森 茂之
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社
Agent (1)： 井内 龍二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992060423
Publication number (International publication number)：1993264480
Application date： Mar. 17, 1992
Publication date： Oct. 12, 1993
Summary：

【要約】【構成】 マイクロビーム化したX線を試料に照射して発生する蛍光X線の強度を検出し、ファンダメンタルパラメータ法(FP法)を用いてX線照射領域の元素の理論蛍光X線強度を算出することにより元素の存在量を分析する方法において、一次〜三次蛍光X線の発生領域が一次コリメータ径、X線入射角およびX線取り出し角に依存する有限領域であることを考慮して各元素の理論蛍光X線強度を算出することを特徴とする局所部の蛍光X線分析方法。【効果】 30μm〜100μmφの局所領域における定量分析を精度よく行なうことができる。

Claim (excerpt)：

一次コリメータによりマイクロビーム化したX線を試料に照射して発生する蛍光X線の強度を検出し、ファンダメンタルパラメーター法(FP法)を用いてX線照射領域の元素の理論蛍光X線強度を算出することにより元素の存在量を分析する方法において、一次〜三次蛍光X線の発生領域が前記一次コリメータ径、前記X線入射角及び前記蛍光X線取り出し角に依存する有限領域として各元素の理論蛍光X線強度を算出することを特徴とする局所部の蛍光X線分析方法。