Pat

J-GLOBAL ID：200903037289516588

異物検査装置

Inventor： 進藤 千夏
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991296006
Publication number (International publication number)：1993134392
Application date： Nov. 12, 1991
Publication date： May. 28, 1993
Summary：

【要約】【構成】半導体装置等の製造におけるフォト工程で使用される、フォトマスク面上の異物を検査し、前記異物を観察表示する機能を有する異物検査装置において、前記異物と、あらかじめ設定しておいた前記フォトマスクのチップ配置とを重ね合わせて画面上に表示することができる。【効果】フォトマスク面上の異物の位置を知ることができると共に、異物の検査観察及び不良判断を確実に、かつ容易に行うことができる。

Claim (excerpt)：

半導体装置等の製造におけるフォト工程で使用される、フォトマスク面上の異物を検査し、前記異物を観察表示する機能を有する異物検査装置において、前記異物と、あらかじめ設定しておいた前記フォトマスクのチップ配置とを同時に表示する機能を有することを特徴とする異物検査装置。

IPC (4)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/027