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J-GLOBAL ID：200903037351956263

消臭、除菌、芳香エアゾール剤

Inventor：
松本 健夫

About 松本 健夫

, 
高橋 正行

About 高橋 正行

, 
田中 修

About 田中 修


Applicant, Patent owner：
キョ-ワ工業株式会社

About キョ-ワ工業株式会社

, 
大日本除蟲菊株式会社

About 大日本除蟲菊株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002171953
Publication number (International publication number)：2003082338
Application date： Jun. 12, 2002
Publication date： Mar. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】 噴射による即時効果とともに、吸液蒸散体からの蒸散による持続効果を併せ持つ消臭、除菌、芳香エアゾール剤の提供。【課題の解決手段】 消臭成分等を含むエタノール原液/噴射剤の比率が40/60〜15/85(容量比)であるエアゾール内容液をエアゾール噴射装置に充填してなり、このエアゾール噴射装置は、エアゾール内容液を空間に噴射する噴射ノズルと、空間に蒸散させる吸液蒸散体を備えるとともに、エアゾール内容液を前記噴射ノズルに導く連通路と、前記吸液蒸散体に導く手段を有しており、更に前記吸液蒸散体のエタノール吸液量は0.2〜2.0g/cm3で、かつ前記噴射ノズルの噴射口の断面積/前記手段に形成される導出口の総断面積の比率は0.1〜5.0であり、エアゾール内容液の空間噴射による即時効果とともに、吸液蒸散体からの蒸散による持続効果を併せ持つようになした消臭、除菌、芳香エアゾール剤。
Claim (excerpt)：
消臭成分及び/又は除菌成分と芳香成分を含むエタノール原液/噴射剤の比率が40/60〜15/85(容量比)であるエアゾール内容液をエアゾール噴射装置に充填してなり、このエアゾール噴射装置は、エアゾール内容液を空間に噴射する噴射ノズルと、エアゾール内容液を空間に蒸散させる吸液蒸散体を備えるとともに、エアゾール内容液を前記噴射ノズルに導く連通路と、前記吸液蒸散体に導く手段を有しており、更に前記吸液蒸散体のエタノール吸液量は0.2〜2.0g/cm3で、かつ前記噴射ノズルの噴射口の断面積/前記手段に形成される導出口の総断面積の比率は0.1〜5.0であり、エアゾール内容液の空間噴射による即時効果とともに、吸液蒸散体からの蒸散による持続効果を併せ持つようになしたことを特徴とする消臭、除菌、芳香エアゾール剤。
IPC (6)：
C09K 3/30 ,  A01N 31/02 ,  A01N 65/00 ,  A61L 9/01 ,  A61L 9/14 ,  C09K 3/00 110
FI (9)：
C09K 3/30 S ,  A01N 31/02 ,  A01N 65/00 A ,  A61L 9/01 H ,  A61L 9/01 M ,  A61L 9/01 Q ,  A61L 9/01 R ,  A61L 9/14 ,  C09K 3/00 110
F-Term (25)：
4C080AA03 ,  4C080AA04 ,  4C080BB02 ,  4C080BB03 ,  4C080BB05 ,  4C080CC01 ,  4C080HH04 ,  4C080JJ03 ,  4C080KK06 ,  4C080LL04 ,  4C080LL09 ,  4C080MM12 ,  4C080MM15 ,  4C080MM31 ,  4C080NN15 ,  4C080NN24 ,  4H011AA01 ,  4H011BB03 ,  4H011BB22 ,  4H011DA21 ,  4H011DB04 ,  4H011DB05 ,  4H011DD05 ,  4H011DE16 ,  4H011DG03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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