Pat

J-GLOBAL ID：200903037353326100

マイクロ構造体及びその製造方法並びにマイクロ構造体の応用装置並びにその製造方法

Inventor： 杉山 進 ,  山口正洋 ,  荒井賢一
Applicant, Patent owner： 関西ティー・エル・オー株式会社
Agent (1)： 大木 健一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000215737
Publication number (International publication number)：2002028899
Application date： Jul. 17, 2000
Publication date： Jan. 29, 2002
Summary：

【要約】【課題】 微細加工プロセスにより形成される長く、かつアスペクト比の大きなマイクロ構造体を提供する。【解決手段】 基板と、前記基板上に複数形成された長くかつアスペクト比の大きな構造体2と、前記構造体に分散して複数設けられて前記構造体が倒れないように支持する支持部2a,2bとを備える。前記支持部の幅q、tは前記構造体2の幅よりも大きく、前記支持部2a,2bは隣接する前記構造体に接触しないように設けられている。

Claim (excerpt)：

基板と、前記基板上に複数形成された長くかつアスペクト比の大きな構造体と、前記構造体に分散して複数設けられて前記構造体が倒れないように支持する支持部とを備え、前記支持部の幅は前記構造体の幅よりも大きく、前記支持部は隣接する前記構造体に接触しないように設けられていることを特徴とするマイクロ構造体。

IPC (5)：

B81B 1/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 5/18 ,  G12B 15/06 ,  H01P 1/215

FI (5)：

B81B 1/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 5/18 ,  G12B 15/06 ,  H01P 1/215

F-Term (10)：

2F078GB03 ,  2F078GB16 ,  2H049AA03 ,  2H049AA43 ,  2H049AA48 ,  2H049AA50 ,  2H049AA59 ,  5J006HD04 ,  5J006LA02 ,  5J006LA25