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J-GLOBAL ID：200903037435475643

高分子界面活性剤

Inventor： 山岸 敏 ,  角井 寿雄
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 中村 稔 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991263788
Publication number (International publication number)：1993103969
Application date： Oct. 11, 1991
Publication date： Apr. 27, 1993
Summary：

【要約】【構成】 メトキシポリエチレングリコール(9)メタアクリレート等のポリエチレンオキシドを含有するモノマー単位5〜50重量%、アクリル酸ブチル等の疎水性基を含有するモノマー単位5〜50重量%、アクリル酸等のイオン性基を含有するモノマー単位0.1〜50%重量を含み、これらの合計量が25重量%以上である分子量1000〜60万の共重合体またはその塩からなることを特徴とする高分子界面活性剤。【効果】 低濃度で表面張力低下能が大きく、また油に対する乳化や疎水性色素等の可溶化作用、固体微粒子の分散能等に優れた界面活性能を示す。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)〜(4)を構成単位とするコポリマーであって、かつ構成単位(1)+(2)+(3)の合計量が25重量%以上である分子量1000〜60万のコポリマーまたはその塩からなることを特徴とする高分子界面活性剤。(1)ポリエチレンオキシドを含有する構成単位【化1】(R1:水素又はメチル基R2:水素、炭素1〜4のアルキル基又はフェニル基n :2〜100)(2)疎水性基を含有する構成単位【化2】(R3:水素又はメチル基R4:C4以上のアルキル基、アルケニル基、アリール基又はCOOR5、ここでR5はC4以上のアルキル基)(3)イオン性基含有構成単位【化3】(R6:水素、メチル又はフェニル基Z:COOH、SO3H、CONH2、-CON-(CmH2m)-SO3H、又はCOO-(CmH2m)ーNR7、ここで(Cm H2m)はC2〜C4のアルキレン基、R7はC1〜C3のアルキル基)(4)構成単位【化4】(R8:水素又はメチル基R9:C3以下のアルキル基、アルケニル基又はCOOR10、ここでR10はC3以下のアルキル基)

IPC (7)：

B01F 17/52 ,  C08F220/18 MMC ,  C08F220/36 MMQ ,  C08F220/58 MNG ,  C08F228/02 MNR ,  C08F299/02 MRS ,  C08G 65/26 NQN

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-275696
  
• 特開平2-073804
  
• 特開平2-115201