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J-GLOBAL ID:200903037454365140
透明導電性積層体及びそれを用いた分散型EL素子
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998319340
Publication number (International publication number):2000141533
Application date: Nov. 10, 1998
Publication date: May. 23, 2000
Summary:
【要約】【課題】 透明導電層の断線に起因する分散型EL素子の発光不良の発生を防止する。【解決手段】 透明基体(A)10の一方の主面に、少なくとも、酸化インジウムを主成分とする透明導電層(B)20を形成した積層体において、該透明導電層(B)の単位幅当たりの耐電流値を10(mA/mm)以上、80(mA/mm)以下とする。
Claim (excerpt):
透明基体(A)の一方の主面に、少なくとも、酸化インジウムを主成分とする透明導電層(B)を形成した積層体であって、該透明導電層(B)の単位幅当たりの耐電流値が10(mA/mm)以上、80(mA/mm)以下であることを特徴とする透明導電性積層体。
IPC (3):
B32B 7/02 104
, B32B 9/00
, H05B 33/28
FI (3):
B32B 7/02 104
, B32B 9/00 A
, H05B 33/28
F-Term (32):
3K007AB02
, 3K007AB05
, 3K007AB11
, 3K007CA05
, 3K007CB01
, 3K007DA04
, 3K007DB02
, 3K007EA03
, 3K007EB04
, 3K007FA01
, 3K007FA03
, 4F100AA17B
, 4F100AA28
, 4F100AA33
, 4F100AA33B
, 4F100AK01A
, 4F100AK42
, 4F100AR00A
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA07
, 4F100EH66
, 4F100EH662
, 4F100EJ423
, 4F100GB41
, 4F100JG01
, 4F100JG01B
, 4F100JN01
, 4F100JN01A
, 4F100JN01B
, 4F100YY00B
, 4F100YY003
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開昭48-055267
-
透明導電膜およびその形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-273432
Applicant:株式会社リコー
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特開昭60-124397
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特開平2-276630
-
特開平3-274256
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