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J-GLOBAL ID：200903037511458010
ポジ型レジスト組成物の調製法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993046454
Publication number (International publication number)：1994258826
Application date： Mar. 08, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：
【要約】【目的】 非溶解粒子が少なく、又、レジスト組成物の調製時及び保存時に固形分の結晶が析出しないポジ型レジスト組成物の調製法を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び溶剤を含むポジ型レジスト組成物の調製法であって、アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド化合物の合計量が該合計量及び溶剤の総量100重量部に対して25重量部以上になるように溶液を調製すること、並びに、得られた溶液をさらに5重量部以上の溶剤で希釈することを特徴とするポジ型レジスト組成物の調製法。
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び溶剤を含むポジ型レジスト組成物の調製法であって、アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド化合物の合計量が該合計量及び溶剤の総量100重量部に対して25重量部以上になるように溶液を調製すること、並びに、得られた溶液をさらに5重量部以上の溶剤で希釈することを特徴とするポジ型レジスト組成物の調製法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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