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J-GLOBAL ID:200903037513852866

基礎地盤の改良工法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久門 知 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997119731
Publication number (International publication number):1998311023
Application date: May. 09, 1997
Publication date: Nov. 24, 1998
Summary:
【要約】【課題】 液状化のおそれある砂質土地盤、圧密沈下を免れない軟弱粘性土地盤を安定な基礎地盤に改良する基礎地盤の改良工法を提供する。【解決手段】 液状化のおそれある地盤中に、地表から所定の深さに達する鉛直固化壁1を一方向に所定間隔に複数列構築し、この鉛直固化壁1,1 の上端部間と下端部間に、それぞれこれらと一体をなす上部水平固化盤2aと下部水平固化盤2bをそれぞれ構築する。
Claim (excerpt):
地盤改良を必要とする地盤中に、地表から所定の深さに達する鉛直固化壁を一方向または二方向に所定間隔に複数列構築し、この鉛直固化壁間にこれと一体をなす水平固化盤を所定間隔に複数層構築することを特徴とする基礎地盤の改良工法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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