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J-GLOBAL ID：200903037517735961

ガスハイドレート製造装置およびガスハイドレート脱水装置

Inventor： 木村 隆宏 ,  岩崎 省二郎 ,  伊東 勝夫 ,  上原 知 ,  吉川 孝三 ,  長安 弘貢 ,  江間 晴彦 ,  渡部 正治 ,  近藤 雄一 ,  藤田 尚義 ,  遠藤 仁 ,  北 吉博
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 藤田 考晴 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001097104
Publication number (International publication number)：2001342473
Application date： Mar. 29, 2001
Publication date： Dec. 14, 2001
Summary：

【要約】【課題】 スラリー状ガスハイドレートを効率よく連続的に脱水・冷却して固化させ、ガスハイドレートの粉体をブロック状に固めて大気下に取り出すことができるガスハイドレート脱水冷却取出装置を提供する。【解決手段】 スラリー状ガスハイドレートを脱水固化して大気圧下に取り出すガスハイドレート脱水冷却取出装置であって、圧力容器の上部にスラリー状ガスハイドレートの供給口32を備えた取出装置本体31と、該取出装置本体31内の下部に設けられ排水口37及び出口密閉手段を備えたスクリュー押出成形機33と、該スクリュー押出成形機33の出口39付近を冷却する冷却手段41と、を具備して構成した。

Claim (excerpt)：

原料ガスからスラリー状のガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成反応装置と、生成されたスラリー状のガスハイドレートを脱水するガスハイドレート脱水装置とを備えるガスハイドレート製造装置であって、前記ガスハイドレート脱水装置が、生成されたスラリー状のガスハイドレートを物理的に脱水する物理脱水手段と、該物理脱水手段による脱水の過程もしくは脱水後においてガスハイドレートに含まれる水分を原料ガスと反応させてハイドレート化する水和脱水手段とを備えることを特徴とするガスハイドレート製造装置。

IPC (13)：

C10L 3/10 ,  B01D 29/25 ,  B01D 29/37 ,  B01D 35/22 ,  B01J 3/00 ,  B01J 3/02 ,  B01J 3/02 101 ,  B01J 3/04 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04

FI (14)：

B01J 3/00 A ,  B01J 3/02 C ,  B01J 3/02 D ,  B01J 3/02 E ,  B01J 3/02 A ,  B01J 3/02 101 A ,  B01J 3/04 F ,  C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  C10L 3/00 B ,  B01D 37/06