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J-GLOBAL ID:200903037533944708

香料組成物、及びそれを含有する化粧料並びに芳香剤

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 遠山 勉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993254460
Publication number (International publication number):1995109481
Application date: Oct. 12, 1993
Publication date: Apr. 25, 1995
Summary:
【要約】【目的】 悪臭,体臭,煙草臭等を効率的に且つ長期にわたってマスクできる香料組成物、それを含有する化粧料及び芳香剤を提供する。【構成】 香料組成物はアセチルオクタヒドロテトラメチルナフタレン、ガンマメチルイオノン、ヘキサハイドロヘキサメチルシクロペンタベンゾピラン、メチル(トリメチルシクロペンテニル)ペンタノール、イソカンフィルシクロヘキサナールから選ばれる2種以上を特定量含み、化粧料、芳香剤はこの組成物を特定量含む。
Claim (excerpt):
下記化1で表されるアセチルオクタヒドロテトラメチルナフタレン、化2で表されるガンマメチルイオノン、化3で表されるヘキサハイドロヘキサメチルシクロペンタベンゾピラン、化4で表されるメチル(トリメチルシクロペンテニル)ペンタノール、及び化5で表されるイソカンフィルシクロヘキサナールから選ばれる2種以上を10〜50重量%含む香料組成物。【化1】【化2】【化3】【化4】【化5】
IPC (4):
C11B 9/00 ,  A61K 7/46 315 ,  A61K 7/46 355 ,  A61K 7/46 411
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • 香料組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-166734   Applicant:高砂香料工業株式会社, 株式会社資生堂
  • 特開昭52-133947
  • 特開平3-181599
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