Pat

J-GLOBAL ID：200903037577613903

レジスト

Inventor： 村井 伸次 ,  中野 義彦 ,  平岡 俊郎 ,  ジユリアン コウ ,  早瀬 修二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 則近 憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995105164
Publication number (International publication number)：1996305028
Application date： Apr. 28, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 感光性を有するとともにドライエッチング耐性に優れ、かつ熱安定性が良好な高精度のパターン形成を可能とするレジストの提供。【構成】 下記一般式(1)及び(2)のいずれかで表される繰返し単位を有するポリシランからなる。【化1】

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)及び(2)のいずれかで表される繰返し単位を有するポリシランからなることを特徴とするレジスト。【化1】

IPC (3)：

G03F 7/075 511 ,  C08G 77/60 NUM ,  G03F 7/004 503

FI (3)：

G03F 7/075 511 ,  C08G 77/60 NUM ,  G03F 7/004 503