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J-GLOBAL ID：200903037603920410
ドライエッチング方法及び装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
谷川 昌夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993303590
Publication number (International publication number)：1995161687
Application date： Dec. 03, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：
【要約】【目的】銅又は銅合金を極めて精度よくドライエッチングできるドライエッチング方法及び装置を提供する。【構成】少なくとも、ハロゲン化アルミニウムのガスと、ハロゲンガスまたは(及び)ハロゲン化アルミニウム以外のハロゲン化物のガスと、中性配位子となりうる物質のガスとを真空装置1内に導入し、この混合ガスを所定真空状態下で電力印加によりプラズマ化し、このプラズマの下で真空装置1内に予め配置した銅または銅合金S1をドライエッチングするドライエッチング方法及び装置。
Claim (excerpt)：
少なくとも、ハロゲン化アルミニウムのガスと、ハロゲンガスまたは(及び)ハロゲン化アルミニウム以外のハロゲン化物のガスと、中性配位子となりうる物質のガスとを真空装置内に導入し、この混合ガスを所定真空状態下で電力印加によりプラズマ化し、このプラズマの下で前記真空装置内に予め配置した銅または銅合金をドライエッチングするドライエッチング方法。
IPC (2)：
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