Pat

J-GLOBAL ID：200903037608408041

シリコンハライドの添加によって改善されたTiO▲下2▼の製造法

Inventor： ゴンザーレス,ロール・アールベルトウ
Applicant, Patent owner： イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー
Agent (1)： 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996503231
Publication number (International publication number)：1997511985
Application date： Jun. 27, 1995
Publication date： Dec. 02, 1997
Summary：

【要約】プラグフロー反応器中で、TiCl4と酸素含有ガスとの反応において、シリコンハライドを添加することによって、実質的にアナターゼを含まないTiO2を製造するための方法が開示されている。顔料の性質、例えば光沢およびCBUは、耐久性を損なうことなく高められている。

Claim (excerpt)：

蒸気のTiCl4、酸素含有ガスおよびアルミニウムハライドをプラグフロー反応器中で反応させ、シリコンハライドを約1200°C〜約1600°Cの範囲のプロセス温度で導入することからなり、そしてシリコンハライドを、酸素含有ガスとTiCl4とを最初に接触させた所の下流の一つまたはそれ以上の箇所で添加する、実質的にアナターゼを含まないTiO2を製造するための気相方法。