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J-GLOBAL ID:200903037617346083

気泡生成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 樺山 亨 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000122424
Publication number (International publication number):2001300276
Application date: Apr. 24, 2000
Publication date: Oct. 30, 2001
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、コンパクトでありながら洗浄性能や浄化性能に優れた気泡生成装置や気泡生成方法、気泡供給システムを提供する。【解決手段】 加圧ポンプ1の吸引側につながる吸引流路2に、ポンプの駆動で発生する負圧で大気を吸引する気体導入部3を有する流体吸引系100を設け、加圧ポンプ1の吐出側につながる吐出流路4に、加圧ポンプから吐出される液体と気体との混合流体から微細気泡14を生成する微細気泡生成系200を設けるとともに、吐出流路4につながる連結流路5に、混合流体から噴射気泡30を生成する噴射気泡生成系300を設けて、微細気泡14と噴射気泡30とを1つの装置で生成する。
Claim (excerpt):
加圧ポンプの吸引側につながる吸引流路に設けられた気体導入部を有する流体吸引系と、前記加圧ポンプの吐出側につながる吐出流路に設けられ、該加圧ポンプから吐出された液体と気体との混合流体から微細気泡を生成する微細気泡生成系と、前記吐出流路につながる連結流路に設けられ、前記混合流体から噴射気泡を生成する噴射気泡生成系とを有する気泡生成装置。
IPC (5):
B01F 3/04 ,  A47K 3/00 ,  B01F 5/00 ,  B01F 5/02 ,  C02F 3/22
FI (6):
B01F 3/04 C ,  B01F 3/04 Z ,  A47K 3/00 F ,  B01F 5/00 D ,  B01F 5/02 A ,  C02F 3/22 B
F-Term (9):
4D029AA09 ,  4D029AB03 ,  4D029BB11 ,  4D029CC05 ,  4G035AB15 ,  4G035AB30 ,  4G035AC10 ,  4G035AC15 ,  4G035AE13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • 特開平1-230358
  • 特開平3-077635
  • キャビテ-ションの発生方法および発生装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-063259   Applicant:ハイテック株式会社
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