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J-GLOBAL ID：200903037654687796

光学異方体フィルムとその製造方法、液晶表示装置、共重合ネマティック高分子液晶およびメソゲン基

Inventor： 桑原 眞人 ,  藤沢 幸一 ,  エックハルト ハーネルト ,  トーマス カメル ,  ノルマン ヘーベルレ
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社 ,  コンゾルテイウム フユール エレクトロケミツシエ インヅストリー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999261981
Publication number (International publication number)：2000155217
Application date： Sep. 16, 1999
Publication date： Jun. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】液晶表示セルのレタデーションの温度変化率に応じることができる温度変化率を有し、かつある温度での液晶化合物によるレタデーションの経時変化が小さい光学異方体フィルム及びその製造方法等を提供する。【解決手段】[1]高分子と液晶化合物を含む透明または半透明な光学異方体フィルムであり、法線方向から測定した該光学異方体フィルムの80°Cにおけるレタデーションが30°Cにおけるレタデーションの20〜97%であり、該光学異方体フィルムを30°Cで200時間保持したときの液晶化合物によるレタデーション変化の絶対値が6%以下であることを特徴とする光学異方体フィルム(ただし、レタデーションの測定波長は、546nmである)。[2]高分子と液晶化合物とを混合し、フィルムに成形したのち、加熱しながらフィルムを一軸延伸する[1]記載の光学異方体フィルムの製造方法。

Claim (excerpt)：

高分子と液晶化合物を含む透明または半透明な光学異方体フィルムであり、法線方向から測定した該光学異方体フィルムの80°Cにおけるレタデーションが30°Cにおけるレタデーションの20〜97%であり、該光学異方体フィルムを30°Cで200時間保持したときの液晶化合物によるレタデーション変化の絶対値が6%以下であることを特徴とする光学異方体フィルム(ただし、レタデーションの測定波長は、546nmである)。

IPC (5)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/13363 ,  C09K 19/38 ,  C09K 19/40

FI (5)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/13363 ,  C09K 19/38 ,  C09K 19/40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 光学異方体フィルムとその製造方法および液晶表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-083921   Applicant：住友化学工業株式会社
• 光学異方体フィルムとその製造方法および液晶表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-083920   Applicant：住友化学工業株式会社
• 特開平4-280202
  
• STN型液晶表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-184140   Applicant：カシオ計算機株式会社
• 液晶表示素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-337236   Applicant：旭硝子株式会社, オプトレックス株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Synthesis and characterization of terminally carboxyl ethylene glycol monomethyl ethers-substituted