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J-GLOBAL ID：200903037655865957

グラフト高分子イオン交換膜からなる燃料電池用電解質膜の製造方法

Inventor： 吉田 勝 ,  森田 洋右 ,  浅野 雅春 ,  諏訪 武 ,  西山 総治
Applicant, Patent owner： 日本原子力研究所 ,  日東電工株式会社
Agent (6)： 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  桜井 周矩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003097632
Publication number (International publication number)：2004300360
Application date： Apr. 01, 2003
Publication date： Oct. 28, 2004
Summary：

【課題】含フッ素系高分子イオン交換膜における最大の欠点であるイオン交換容量が小さく、かつ、保水性が悪いこと、また、炭化水素モノマーをグラフトした含フッ素系イオン交換膜における最大の欠点である耐酸化性が低いことなどを解決課題とする。【解決手段】基材として、架橋構造を有する含フッ素系高分子をマトリックスとし、これに放射線照射して種々のモノマーをグラフトまたは共グラフトし、さらに、グラフト鎖へのスルホン酸基の導入について研究を進めた結果、ある特定のフッ素系モノマーを選択することで、基材膜の中心部までグラフトし、イオン交換容量などの各特性を適切で広い範囲内に制御することができる含フッ素系高分子イオン交換膜。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

架橋構造を有するポリテトラフルオロエチレンフィルム基材に、次式: CH2=CF(SO2X)(Xはハロゲン基で-F又は-Cl)のモノマーを電離放射線照射によってグラフト重合させ、得られたフィルムのグラフト鎖中のハロゲン基[-X]をスルホン酸塩[-SO3M](Mはアルカリ金属でNa、K)とし、引き続きスルホン酸塩基をスルホン酸基[-SO3H]とした含フッ素系高分子イオン交換膜の製造方法。

IPC (3)：

C08J7/18 ,  H01M8/02 ,  H01M8/10

FI (3)：

C08J7/18 ,  H01M8/02 P ,  H01M8/10

F-Term (13)：

4F073AA11 ,  4F073BA16 ,  4F073BB01 ,  4F073CA41 ,  4F073FA01 ,  4F073FA06 ,  5G301CA30 ,  5G301CD01 ,  5G301CE00 ,  5H026AA06 ,  5H026BB10 ,  5H026CX05 ,  5H026EE19