Pat

J-GLOBAL ID：200903037666213277

有機ケイ素重合体の製造方法

Inventor： 小林 秀樹 ,  西海 航
Applicant, Patent owner： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991235533
Publication number (International publication number)：1993051459
Application date： Aug. 22, 1991
Publication date： Mar. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】 一般式(Me2RSiO1/2)m(SiO4/2)n (式中、Meはメチル基であり、Rは炭素原子数が2個以上の置換または非置換の1価炭化水素基であり、m/nは 0.2〜4である。)で表される有機ケイ素重合体を効率よく製造する方法を提供するにある。【構成】 一般式 (a) (Me2RSi)2O(式中、MeとRは前記と同じである。)で表されるジシロキサンと、アルキルシリケ-トまたはアルキルシリケ-トの部分加水分解物との混合物を、プロトン酸系強酸触媒を加えて反応させ、しかる後、該反応混合物に塩酸水を滴下することにより、該反応混合物中に残存するアルコキシ基を減少させることを特徴とする、一般式(b)(Me2RSiO1/2)m(SiO4/2)n (式中、MeとRは前記と同じであり、m/nは 0.2〜4である。)で表される有機ケイ素重合体の製造方法。

Claim (excerpt)：

一般式 (a) (Me2RSi)2O(式中、Meはメチル基であり、Rは炭素原子数が2個以上の置換または非置換の1価炭化水素基である。)で表されるジシロキサンと、アルキルシリケ-トまたはアルキルシリケ-トの部分加水分解物との混合物を、プロトン酸系強酸触媒を加えて反応させ、しかる後、該反応混合物に塩酸水を滴下することにより、該反応混合物中に残存するアルコキシ基を減少させることを特徴とする、一般式(b)(Me2RSiO1/2)m(SiO4/2)n (式中、MeとRは前記と同じであり、m/nは0.2〜4である。)で表される有機ケイ素重合体の製造方法。