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J-GLOBAL ID：200903037678893885

ウェーハエッチングの前処理方法

Inventor： 井上 文雄 ,  大場 重男 ,  高石 和成 ,  岡田 忠
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアルシリコン株式会社 ,  三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 佐藤 隆久 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993022533
Publication number (International publication number)：1994236867
Application date： Feb. 10, 1993
Publication date： Aug. 23, 1994
Summary：

【要約】【目的】界面活性剤の代わりに過酸化水素水を使用することにより洗浄液そのものの残留を防止し、かつ適切な酸化還元反応を利用して前工程における汚れを効率的に除去する。【構成】混酸によりケミカルエッチングを行う前に、酸化還元溶液と高濃度アルカリ溶液を用いて連続して洗浄を行う。酸化還元溶液は、無機アルカリ成分が0.08mol/l以上、過酸化水素水溶液が0.05mol/l以上であり、除去能力が10Å/min以上であることが好ましい。高濃度アルカリ溶液は、無機アルカリ成分が7mol/l以上、除去能力が0.7〜1.2μm/minであることが好ましい。

Claim (excerpt)：

混酸エッチングを行う前に、酸化還元溶液と高濃度アルカリ溶液を用いて連続して洗浄を行うことを特徴とするウェーハエッチングの前処理方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭60-092621