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J-GLOBAL ID：200903037713463090

感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法

Inventor： 千葉 達男 ,  市川 立也
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999309108
Publication number (International publication number)：2001125261
Application date： Oct. 29, 1999
Publication date： May. 11, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 レジストパターンの側面ギザ性、解像度、密着性、レジストパターンの平坦性及びアルカリ現像性が極めて優れ、マウスバイトの数が少ない感光性エレメント、それを用いたレジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法を提供する。【解決手段】 二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂層を積層した支持フィルムの前記樹脂層を形成した反対の面に感光性樹脂組成物の層を塗布、乾燥させた感光性エレメントの感光性樹脂組成物が、(A)分散度が1.0〜4.0であるバインダーポリマー(B)分子内に1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有させる。回路形成用基板上に感光性樹脂組成物の層が密着するように積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去し、レジストパターンの製造された回路形成用基板をエッチング又はめっきする。

Claim (excerpt)：

二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂層を積層した支持フィルムの前記樹脂層を形成した反対の面に感光性樹脂組成物の層を塗布、乾燥してなる感光性エレメントにおいて、前記感光性樹脂組成物が、(A)分散度が1.0〜4.0であるバインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる感光性エレメント。

IPC (8)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/09 501 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18

FI (8)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/09 501 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/06 J ,  H05K 3/18 D

F-Term (44)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA13 ,  2H025AA14 ,  2H025AA16 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CB51 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025DA18 ,  2H025DA20 ,  2H025DA40 ,  2H025FA17 ,  2H025FA39 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096HA27 ,  5E339BE11 ,  5E339CC01 ,  5E339CC10 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CE16 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD02 ,  5E343BB24 ,  5E343BB44 ,  5E343BB54 ,  5E343CC43 ,  5E343CC63 ,  5E343CC65 ,  5E343DD43 ,  5E343ER16 ,  5E343ER18 ,  5E343GG08