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J-GLOBAL ID：200903037713797665

共焦点光学装置及びホログラム露光装置

Inventor： 守屋 正人 ,  水上 裕之 ,  鈴木 徹 ,  若井 秀之 ,  中池 孝昇 ,  関 正暢
Applicant, Patent owner： 株式会社小松製作所
Agent (1)： 浜本 忠 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996101500
Publication number (International publication number)：1997288444
Application date： Apr. 23, 1996
Publication date： Nov. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ホログラムに斜めに入射する参照光を、ホログラムに円形状になって入射できるようにする。【解決手段】 ホログラム3に参照光を斜めに入射し、この参照光をホログラム3で回析してピンホールアレイ4の各ピンホール位置から出射する点光源と等価な光に再生し、この再生光を物体に投光し、その反射光である物体光をピンホールに集光するようにした共焦点光学装置、及び上記ホログラムの一側面に物体光を、他側面に斜め方向から参照光を入射してホログラム3を作るホログラム露光装置等において、ホログラム3に斜めに入射する参照光の光路内に、ホログラムに略円形で入射するように整形する入射光整形手段を介装した。

Claim (excerpt)：

ホログラムに参照光を斜めに入射し、この参照光をホログラムで回析してピンホールアレイの各ピンホール位置から出射する点光源と等価な光に再生し、この再生光を物体に投光し、その反射光である物体光をピンホールに集光するようにした共焦点光学装置、及び上記ホログラムの一側面に物体光を、他側面に斜め方向から参照光を入射してホログラムを作るホログラム露光装置等において、ホログラムに斜めに入射する参照光の光路内に、参照光が、ホログラムに略円形で入射するようにこれの断面形状を整形する入射光整形手段を介装したことを特徴とする共焦点光学装置及びホログラム露光装置。

IPC (3)：

G03H 1/04 ,  G01B 11/24 ,  G02B 21/06

FI (3)：

G03H 1/04 ,  G01B 11/24 D ,  G02B 21/06