Pat

J-GLOBAL ID：200903037779803763

平面型磁気素子の製造方法

Inventor： 井上 哲夫 ,  佐藤 敏郎 ,  澤邊 厚仁 ,  富田 宏 ,  溝口 徹彦
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992071986
Publication number (International publication number)：1994077072
Application date： Mar. 30, 1992
Publication date： Mar. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】コイル導体間スペースの幅が小さく、かつ十分な厚さのコイル導体を有する高性能の平面型磁気素子を非常に簡単なプロセスで製造できる方法を提供する。【構成】磁性膜3上にコイル導体間スペースを構成する絶縁膜4を形成する工程と、この絶縁膜4をコイル導体間スペースの形状にパターニングする工程と、この絶縁膜4のパターンを導体膜が選択的に成長できるように表面改質する工程と、この絶縁膜4のパターンの間隙に選択的に導体膜5を充填してコイル導体を形成する工程と、全面に絶縁膜6を形成する工程と、この絶縁膜6上に磁性膜7を形成する工程とを有する。

Claim (excerpt)：

磁性膜上にコイル導体間スペースを構成する絶縁膜を形成する工程と、この絶縁膜をコイル導体間スペースの形状にパターニングする工程と、この絶縁膜パターンを導体膜が選択的に成長できるように表面改質する工程と、この絶縁膜パターンの間隙に選択的に導体膜を充填してコイル導体を形成する工程と、全面に絶縁膜を形成する工程と、この絶縁膜上に磁性膜を形成する工程とを具備したことを特徴とする平面型磁気素子の製造方法。

IPC (3)：

H01F 41/04 ,  H01F 17/00 ,  H01F 41/18