Pat

J-GLOBAL ID：200903037786109651

光合分波器及びその製造方法

Inventor： 桂 浩輔
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 光石 俊郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992180783
Publication number (International publication number)：1994027338
Application date： Jul. 08, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 製作が容易で且つ波長分解能が高く入出力導波路間でのクロストークの少ない光合分波器及びその製造方法を提供することを目的とする。【構成】 光合分波器及びその製造方法において、基板102上にコア層104とクラッド層103,105を積層してなる平面光導波路の上部に凹面回折格子107と入出力光導波路108,109との上部輪郭を覆うパタンを有するエッチング用マスク111を形成し、そのエッチング用マスク111を用いてコア層104の底部まで導波路平面に対してほぼ直角にドライエッチングを行って同時、且つ、一体に凹面回折格子107と入出力光導波路108,109を形成し、エッチング用マスク111を除去してエッチングによって形成された凹面回折格子端面に反射膜106を塗布することで光合分波器101を製造する。

Claim (excerpt)：

平面光導波路の凹面状端面に回折格子を設けた凹面回折格子を用いる光合分波器において、前記凹面回折格子と該凹面回折格子に光を入出射させる複数の光導波路とが、コア層とクラッド層よりなる平面光導波路の少なくともコア層の底部まで導波路平面に対してほぼ直角にパタンエッチングされることにより同時、且つ、一体に形成されていることを特徴とする光合分波器。