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J-GLOBAL ID：200903037815393690

光デイスクの複製方法

Inventor： 佐藤 和洋
Applicant, Patent owner： 日本ビクター株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991211641
Publication number (International publication number)：1993036120
Application date： Jul. 29, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 小さな力でもって基板と放射線硬化樹脂との剥離を開始させる。【構成】 平板状の基板2に所定のパターンの放射線硬化樹脂6を形成し、スタンパ18と基板2を圧着してスタンパ18の凹凸信号20を転写する光ディスクの複製方法において、上記放射線硬化樹脂のパターンの内周側又は外周側の端部に凹凸部10、12を形成し、この凸部12を剥離開始点としてこの部分に剥離力を集中させる。

Claim (excerpt)：

平板状の基板に所定のパターンの放射線硬化樹脂を形成し、その後、スタンパと前記基板を圧着して前記スタンパの凹凸信号を転写する光ディスクの複製方法において、前記放射線硬化樹脂のパターンの端部に、凹凸部を形成するように構成したことを特徴とする光ディスクの複製方法。