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J-GLOBAL ID：200903037829037420

光導波路とその製造方法

Inventor： 西田 亮一 ,  川崎 真一 ,  藤木 剛 ,  山田 良行 ,  川田 浩二 ,  横尾 雅一
Applicant, Patent owner： 大阪瓦斯株式会社
Agent (1)： 蔦田 璋子 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993301614
Publication number (International publication number)：1994222234
Application date： Dec. 01, 1993
Publication date： Aug. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】 Si系の光導波路であって、製造が容易で、集積化が向上できる光導波路を提供する。【構成】 コア12に直鎖状のポリシランを使用した。これにより、ポリシランの製造が容易であり、可視光領域で優れた伝搬特性を有しており、さらに1μm以下の光導波路が可能であるため集積化が向上できる。

Claim (excerpt)：

コアに直鎖状のポリシランを使用したことを特徴とする光導波路。

IPC (2)：

G02B 6/12 ,  C08G 77/60 NUM