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J-GLOBAL ID：200903037830225281

ペースト組成物、及びそれを用いたパターンの形成方法、並びにそのパターン

Inventor：
佐々木 正樹

About 佐々木 正樹

, 
伊藤 信人

About 伊藤 信人

, 
有馬 聖夫

About 有馬 聖夫


Applicant, Patent owner：
太陽インキ製造株式会社

About 太陽インキ製造株式会社


Agent (22)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  橋本 良郎 ,  風間 鉄也 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007297034
Publication number (International publication number)：2008146042
Application date： Nov. 15, 2007
Publication date： Jun. 26, 2008
Summary：
【課題】最大波長が350nm〜420nmのレーザー発振光源を用いたレーザー・ダイレクト・イメージング装置に適し、精細なパターンを効率良く形成するのに有用で、かつ保存安定性に優れたペースト組成物を提供する。【解決手段】(A)カルボキシル基含有樹脂、(B)ガラスフリット、(C)無機粉末、(D)一分子内に少なくとも一つ以上のラジカル重合性不飽和基を有する化合物、及び(E-1)2-(アセチルオキシイミノメチル)チオキサンテン-9-オン等のオキシムエステル系光重合開始剤、及び、(F)2-メルカプトベンゾチアゾール等の硫黄化合物を含有することを特徴とするアルカリ現像型のペースト組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)カルボキシル基含有樹脂、(B)ガラスフリット、(C)無機粉末、(D)一分子内に少なくとも一つ以上のラジカル重合性不飽和基を有する化合物、及び(E-1)下記一般式(I)で表わされる官能基を有するオキシムエステル系光重合開始剤、
IPC (5)：
G03F 7/031 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/40 ,  G02B 5/20 ,  G03F 7/029
FI (7)：
G03F7/031 ,  G03F7/004 505 ,  G03F7/40 501 ,  G03F7/004 501 ,  G02B5/20 101 ,  G03F7/029 ,  G03F7/004 502
F-Term (31)：
2H025AA01 ,  2H025AA11 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC43 ,  2H025CA09 ,  2H025CA28 ,  2H025CA35 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CC01 ,  2H025CC08 ,  2H025CC12 ,  2H025EA04 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H048BB01 ,  2H048BB41 ,  2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096CA12 ,  2H096EA02 ,  2H096EA04 ,  2H096EA23 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (7)
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