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J-GLOBAL ID:200903037843973708

除菌システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 波多野 久 ,  関口 俊三 ,  猿渡 章雄 ,  古川 潤一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004317262
Publication number (International publication number):2006122521
Application date: Oct. 29, 2004
Publication date: May. 18, 2006
Summary:
【課題】浄化対象であるガスの閉空間での除菌に適用可能で、製造コストが安価で、高い除菌性能を備えた除菌システムを提供する。【解決手段】電源5に接続された電極1と電極2との間隙にガス流通性を有するセラミックス構造体3を配置した放電体4を備え、電極1と電極2との間隙に電源5により電圧を印加し、セラミックス構造体3によって電界を歪ませてプラズマを発生させることにより、セラミックス構造体3を流通するガスXに含まれる浮遊菌を除菌することを特徴とする除菌システム10。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
電源に接続された正電極と負電極との間隙にガス流通性を有するセラミックス構造体を配置した放電体を備え、前記正電極と前記負電極との間に前記電源により電圧を印加し、前記セラミックス構造体によって電界を歪ませてプラズマを発生させ、前記セラミックス構造体を流通するガスに含まれる浮遊菌を前記プラズマに通過させて除菌することを特徴とする除菌システム。
IPC (2):
A61L 9/015 ,  B01D 53/86
FI (2):
A61L9/015 ,  B01D53/36 F
F-Term (16):
4C080AA07 ,  4C080BB05 ,  4C080HH02 ,  4C080KK02 ,  4C080LL02 ,  4C080LL10 ,  4C080MM08 ,  4C080NN02 ,  4C080QQ03 ,  4C080QQ17 ,  4C080QQ20 ,  4D048AA12 ,  4D048AB03 ,  4D048CC38 ,  4D048CD08 ,  4D048EA03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (9)
  • 脱臭装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-157180   Applicant:株式会社東芝
  • 特開平4-035723
  • 特開平4-035723
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