Pat
J-GLOBAL ID:200903037852773720
有機分子膜、有機分子膜パターン及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
上柳 雅誉 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000202200
Publication number (International publication number):2002019008
Application date: Jul. 04, 2000
Publication date: Jan. 22, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 紫外光により有機分子膜を分解・除去する場合に、数十分程度の照射が必要であり、パターンニングに要する時間が長いという欠点があった。【解決手段】 基板表面11に、膜厚が3nm以下の第1の有機分子膜12を形成した後に、異なる官能基を有する第2の有機分子膜13を形成する。その有機分子膜の一部にフォトマスクを介して紫外光を照射し、マスクされていない部位のみを選択的に除去してパターンを形成することを特徴とする。
Claim (excerpt):
基板表面に、膜厚が3nm以下の第1の有機分子膜を形成した後に、異なる官能基を有する第2の有機分子膜を形成する有機分子膜の製造方法。
IPC (7):
B32B 9/00
, B05D 1/36
, B05D 3/06 102
, G03F 7/004 521
, G03F 7/20 501
, G03F 7/36
, H01L 21/027
FI (9):
B32B 9/00 Z
, B05D 1/36 Z
, B05D 3/06 102 Z
, G03F 7/004 521
, G03F 7/20 501
, G03F 7/36
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 564 Z
, H01L 21/30 569 H
F-Term (46):
2H025AA02
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BH01
, 2H025BJ10
, 2H025CB32
, 2H025DA11
, 2H025DA40
, 2H096AA30
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096GA36
, 2H096GA60
, 2H097CA12
, 2H097FA03
, 2H097FA07
, 2H097GA45
, 4D075AE03
, 4D075BB46Z
, 4D075EB42
, 4F100AG00A
, 4F100AH00B
, 4F100AH00C
, 4F100AH04B
, 4F100AH04C
, 4F100AH06B
, 4F100AH06C
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100EJ54
, 4F100GB41
, 4F100JA09B
, 4F100JA09C
, 4F100JL02
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 5F046AA17
, 5F046JA20
, 5F046JA27
, 5F046LB02
, 5F046LB09
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