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J-GLOBAL ID：200903037852773720

有機分子膜、有機分子膜パターン及びその製造方法

Inventor： 石田 方哉
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 上柳 雅誉 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000202200
Publication number (International publication number)：2002019008
Application date： Jul. 04, 2000
Publication date： Jan. 22, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 紫外光により有機分子膜を分解・除去する場合に、数十分程度の照射が必要であり、パターンニングに要する時間が長いという欠点があった。【解決手段】 基板表面11に、膜厚が3nm以下の第1の有機分子膜12を形成した後に、異なる官能基を有する第2の有機分子膜13を形成する。その有機分子膜の一部にフォトマスクを介して紫外光を照射し、マスクされていない部位のみを選択的に除去してパターンを形成することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基板表面に、膜厚が3nm以下の第1の有機分子膜を形成した後に、異なる官能基を有する第2の有機分子膜を形成する有機分子膜の製造方法。

IPC (7)：

B32B 9/00 ,  B05D 1/36 ,  B05D 3/06 102 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/027

FI (9)：

B32B 9/00 Z ,  B05D 1/36 Z ,  B05D 3/06 102 Z ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 564 Z ,  H01L 21/30 569 H

F-Term (46)：

2H025AA02 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH01 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB32 ,  2H025DA11 ,  2H025DA40 ,  2H096AA30 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA36 ,  2H096GA60 ,  2H097CA12 ,  2H097FA03 ,  2H097FA07 ,  2H097GA45 ,  4D075AE03 ,  4D075BB46Z ,  4D075EB42 ,  4F100AG00A ,  4F100AH00B ,  4F100AH00C ,  4F100AH04B ,  4F100AH04C ,  4F100AH06B ,  4F100AH06C ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100JA09B ,  4F100JA09C ,  4F100JL02 ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  5F046AA17 ,  5F046JA20 ,  5F046JA27 ,  5F046LB02 ,  5F046LB09