Pat

J-GLOBAL ID：200903037863341252

ガス分析装置

Inventor： 入江 隆史 ,  三井 泰裕 ,  蓮見 啓二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
Agent (1)： 薄田 利幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992041330
Publication number (International publication number)：1993242858
Application date： Feb. 27, 1992
Publication date： Sep. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高純度ガス中の、極低濃度(ppbレベル)の水分の定量分析を、小型かつ高感度で行うガス分析装置を提供する。【構成】 試料ガス1を導入しイオン化するイオン源5と純化器9で不純物を1ppb以下にまで低減した純ガスを入れたドリフトチュ-ブ16とからなる。ドリフトチュ-ブ16部は、シャッタ13と電極14と検出器15をもつ。シャッタ13はイオン源5とドリフトチュ-ブ16部を分離し、試料ガス1と純ガス10の混合を低減する役割も兼ねる。不純物濃度の分析は、ドリフトチュ-ブ16で分離された主成分イオンの全イオン強度に対する割合から求められる。ppb領域という低濃度の不純物(水分)を分析するため、ドリフトチュ-ブ16部におけるイオンの滞在時間を、試料ガスの主イオンと水分との反応平均時間に比べ短く設定する。

Claim (excerpt)：

分析すべき試料ガスを入れ、上記試料ガスをイオン化手段によってイオン化する第1の容器を持つイオン源と、上記イオン源でイオン化された複数のイオンをドリフトして上記試料ガスの主成分の主成分イオンと上記試料ガスの不純物の不純物イオンとに分離する第2の容器を持つイオン分離手段と、上記主成分イオンと上記不純物イオンを検出し上記試料ガスの不純物を分析する信号処理手段とをもつガス分析装置において、上記イオン源及びイオン分離手段が上記主成分イオンの上記第2の容器に滞在する時間を上記主成分イオンと上記第2の容器内の不純物分子との平均反応時間より短くなるように構成されたことを特徴とするガス分析装置。

IPC (2)：

H01J 49/40 ,  G01N 27/62

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭50-119695
  
• 特開平3-058356
  
• 特開平2-056782
  
• 特開平1-315074
  
• 特開昭50-119695