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J-GLOBAL ID：200903037878528600

縮小投影露光装置

Inventor： 藤井 厚史
Applicant, Patent owner： 山口日本電気株式会社
Agent (1)： 志賀 正武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998186656
Publication number (International publication number)：2000021730
Application date： Jul. 01, 1998
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 短時間で露光面内でのフォーカス位置のばらつきを精度良く補正することが可能な縮小投影露光装置を提供する。【解決手段】 露光光を出射する光源と、計測パターンを有するレチクルと、露光光を集束させる縮小投影レンズと、ウェハを載置するウェハステージと、該ウェハステージ上に設けられ、露光光が透過可能なスリットを有するパターン板と、該スリットを透過した露光光を受光する受光素子とを備え、前記レチクルが露光光を透過させる複数の計測パターンを有し、前記パターン板が前記複数の計測パターンの位置の縮小投影レンズによる縮小倍率分から算出された各位置にスリットをそれぞれ有し、各スリットの下方に前記受光素子をそれぞれ備えている縮小投影露光装置。

Claim (excerpt)：

露光光を出射する光源と、計測パターンを有するレチクルと、露光光を集束させる縮小投影レンズと、ウェハを載置するウェハステージと、該ウェハステージ上に設けられ、露光光が透過可能なスリットを有するパターン板と、該スリットを透過した露光光を受光する受光素子とを備え、前記レチクルが露光光を透過させる複数の計測パターンを有し、前記パターン板が前記複数の計測パターンの位置の縮小投影レンズによる縮小倍率分から算出された各位置にスリットをそれぞれ有し、各スリットの下方に前記受光素子をそれぞれ備えていることを特徴とする縮小投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207

FI (5)：

H01L 21/30 526 A ,  G03B 27/32 F ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 515 G

F-Term (13)：

2H106BE12 ,  2H106BE53 ,  2H106BE59 ,  2H106BE63 ,  5F046BA04 ,  5F046CC05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC12 ,  5F046EA21 ,  5F046EB10