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J-GLOBAL ID:200903037879997581

排気ガス浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 前田 弘 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991338588
Publication number (International publication number):1993171921
Application date: Dec. 20, 1991
Publication date: Jul. 09, 1993
Summary:
【要約】【目的】排気ガス中のHC量が少ないときのNOx浄化率を効率良く高める。【構成】金属含有シリケートに遷移金属が担持されてなる触媒6を排気通路3に設けるとともに、この触媒6にHCを供給する手段12を設け、排気ガス中のHC/NOx比が所定値以下のときであって且つ排気ガス又は触媒6の温度が所定値以上のときに、上記HC供給手段12を作動させて触媒6にHCを供給する。
Claim (excerpt):
金属含有シリケートに遷移金属が担持されてなり、NOxを含有する排気ガスを浄化する触媒と、上記触媒にHCを供給するためのHC供給手段と、上記排気ガス中のHCとNOxとの成分比を検出する成分比検出手段と、上記排気ガス若しくは触媒の温度を検出する温度検出手段と、上記成分比検出手段によって検出されるHC/NOx比と上記温度検出手段によって検出される温度とに基づき、上記HC/NOx比が所定値以下のときであって且つ上記温度が所定値以上のときに、上記HC供給手段を作動させる制御手段とを備えていること特徴とする排気ガス浄化装置。
IPC (6):
F01N 3/08 ,  B01D 53/34 129 ,  B01D 53/36 101 ,  B01D 53/36 102 ,  B01J 29/28 ,  F01N 3/10

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