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J-GLOBAL ID：200903037890092469

ニトリルを水素化することによって第一アミンを製造する方法

Inventor： ゴボロス・シャンドル ,  ファシ・アンドラス ,  マルギットファルヴィ・ヨジェフ ,  ミリアン・ラセロネ
Applicant, Patent owner： クラリアント・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
Agent (4)： 江崎 光史 ,  三原 恒男 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003569597
Publication number (International publication number)：2005526041
Application date： Feb. 13, 2003
Publication date： Sep. 02, 2005
Summary：

本発明は、ニトリルを水素化することによって第一アミンを製造するための方法の改善に関する。この水素化法の改善は、予め吸着されたアルカリ金属炭酸塩もしくはアルカリ金属炭酸水素塩、例えばK2CO3またはKHCO3を用いて域外で変性された水素化触媒を使用する点にある。

Claim (excerpt)：

次の成分、すなわち (a) 少なくとも一種のニトリル、 (b) 水素、 (c) 場合によってはアンモニア、及び (d) アルカリ金属炭酸塩もしくはアルカリ金属炭酸水素塩の吸着によって域外(ex situ)で変性された少なくとも一種のコバルトまたはニッケル触媒、 を含む反応混合物を反応させることを含む、ニトリルの水素化によって第一アミンを製造する方法。

IPC (5)：

C07C209/48 ,  B01J27/232 ,  B01J27/236 ,  C07C211/07 ,  C07C211/21

FI (5)：

C07C209/48 ,  B01J27/232 Z ,  B01J27/236 Z ,  C07C211/07 ,  C07C211/21

F-Term (63)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01B ,  4G069BA06B ,  4G069BA09B ,  4G069BB03A ,  4G069BB03B ,  4G069BB16A ,  4G069BB16B ,  4G069BC01A ,  4G069BC02B ,  4G069BC03A ,  4G069BC03B ,  4G069BC05B ,  4G069BC06B ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BC68A ,  4G069BC68B ,  4G069BC71B ,  4G069CB06 ,  4G069CB77 ,  4G069DA08 ,  4G069FA01 ,  4G069FB14 ,  4G069FC08 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01B ,  4G169BA06B ,  4G169BA09B ,  4G169BB03A ,  4G169BB03B ,  4G169BB16A ,  4G169BB16B ,  4G169BC01A ,  4G169BC02B ,  4G169BC03A ,  4G169BC03B ,  4G169BC05B ,  4G169BC06B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BC71B ,  4G169CB06 ,  4G169CB77 ,  4G169DA08 ,  4G169FA01 ,  4G169FB14 ,  4G169FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006BA02 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA32 ,  4H006BA51 ,  4H006BA70 ,  4H006BE20 ,  4H039CA71 ,  4H039CB30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特公昭45-030088
  
• 特公昭45-030088