Pat
J-GLOBAL ID：200903037917793499
蛍光X線分析装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
塩野入 章夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001345946
Publication number (International publication number)：2003149182
Application date： Nov. 12, 2001
Publication date： May. 21, 2003
Summary：
【要約】【課題】 複数の励起X線の試料面での照射位置の微小な位置合わせを容易とし、また、一つの蛍光X線分析装置によって100μm以下の微小部分について軽元素から重元素を分析する。【解決手段】 蛍光X線分析装置1は、連続X線を照射する第1の励起X線源2、及び特性一次X線を照射する少なくとも一つの第2の励起X線源3と試料ステージ10とを備え、試料ステージ10は、各励起X線源が照射する一次X線の試料面での照射位置と試料ステージの原点に対するオフセット量を各励起X線源毎に位置補正する。オフセット量は、各励起X線源毎に一次X線の試料面での照射位置と試料ステージの原点との位置ずれを予め求め記憶しておき、測定時において使用する励起X線源に対応するオフセット量を読み出し、オフセット量を用いて照射位置と試料ステージの原点が一致するように試料ステージの位置補正を行う。
Claim (excerpt)：
少なくとも二つの励起X線源と、試料ステージを備え、前記試料ステージは、前記各励起X線源が照射する一次X線の試料面での照射位置と試料ステージの原点に対するオフセット量を、各励起X線源毎に位置補正する、蛍光X線分析装置。
IPC (2)：
FI (3)：
G01N 23/223
, G21K 5/02 W
, G21K 5/02 X
2G001AA01
, 2G001AA09
, 2G001AA10
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001FA01
, 2G001FA08
, 2G001FA09
, 2G001GA01
, 2G001HA13
, 2G001KA01
, 2G001NA16
, 2G001QA01
