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J-GLOBAL ID:200903037924363092
水素水製造装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中野 雅房
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004367381
Publication number (International publication number):2006167683
Application date: Dec. 20, 2004
Publication date: Jun. 29, 2006
Summary:
【課題】 本発明の目的とするところは、気液混合タンク内の水を蒸発させることによって得た蒸留水を電解槽へ補水することによって、外部から電解槽への補水の必要がない水素水製造装置を提供する。【解決手段】 浴槽113内の浴水と、電解槽126内に溜めた電解液中の水を電気分解して発生させた水素ガスを気液混合タンク112内に供給する。浴水は気液混合タンク112内で水素ガスが溶解されて再び浴槽113内に噴出される。水素ガスを発生させることにより減少した電解液の補水は、気液混合タンク112内に設けたヒーター136で浴水を加熱して蒸発させ、冷却器137で冷却して得た蒸留水を電解槽126に流し込むことにより補水される。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
気液混合タンクと、温水を前記気液混合タンクに注入する第1の水流路と、前記気液混合タンク内の温水を送り出す第2の水流路と、前記両水流路及び前記気液混合タンクに温水を通過させるためのポンプと、水素ガスを発生させるための電解槽と、前記電解槽から前記気液混合タンクに水素ガスを供給する水素ガス供給管とを備えた水素水製造装置において、
前記気液混合タンク内にヒーターを設け、
前記電解槽内への補水は、前記ヒーターにより前記気液混合タンク内の水を加熱して蒸留して得た蒸留水を前記電解槽内へ供給することにより行うことを特徴とする水素水製造装置。
IPC (4):
C02F 1/68
, A47K 3/00
, C25B 1/04
, C25B 9/00
FI (8):
C02F1/68 520B
, C02F1/68 510H
, C02F1/68 530D
, C02F1/68 540E
, A47K3/00 E
, A47K3/00 Z
, C25B1/04
, C25B9/00 A
F-Term (10):
2D005FA00
, 4K021AA01
, 4K021BA02
, 4K021BC01
, 4K021BC03
, 4K021CA08
, 4K021CA10
, 4K021DB03
, 4K021DB40
, 4K021DC03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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特願2004-66071号公報
-
洗浄機能付き連続式電解イオン水生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-020125
Applicant:赤井電機株式会社
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