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J-GLOBAL ID:200903037979591540

皮膚洗浄料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩橋 祐司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002311639
Publication number (International publication number):2003221310
Application date: Oct. 25, 2002
Publication date: Aug. 05, 2003
Summary:
【要約】【課題】 本発明の目的は、使用性、安全性、及び化粧料除去効果に優れた効果を有する皮膚洗浄料を提供することにある。【解決手段】 下記一般式化1で示されるアルキレンオキシド誘導体を含有することを特徴とする皮膚洗浄料。【化1】R1O-[(AO)m(EO)n]-R2(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、m及びnはそれぞれ炭素数3〜4のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、20〜80質量%である。オキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。R1及びR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基又は水素原子であり、R1及びR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)
Claim (excerpt):
下記一般式化1で示されるアルキレンオキシド誘導体を含有することを特徴とする皮膚洗浄料。【化1】R1O-[(AO)m(EO)n]-R2(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、m及びnはそれぞれ炭素数3〜4のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、20〜80質量%である。オキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。R1及びR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基又は水素原子であり、R1及びR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)
IPC (3):
A61K 7/02 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/50
FI (3):
A61K 7/02 A ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/50
F-Term (35):
4C083AA112 ,  4C083AB032 ,  4C083AB332 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC402 ,  4C083AC432 ,  4C083AC532 ,  4C083AC642 ,  4C083AC712 ,  4C083AC792 ,  4C083AD051 ,  4C083AD052 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD172 ,  4C083AD282 ,  4C083BB01 ,  4C083BB21 ,  4C083BB41 ,  4C083BB48 ,  4C083CC23 ,  4C083CC24 ,  4C083DD22 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083DD38 ,  4C083DD39 ,  4C083DD41 ,  4C083EE07 ,  4C083EE10 ,  4C083FF01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (2)

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