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J-GLOBAL ID：200903038012117470

改良された加工特性を有するポジ型フォトレジスト

Inventor： ウルリッヒ シェーデリ ,  ノルベルト ミュンツェル
Applicant, Patent owner： チバ-ガイギー アクチエンゲゼルシャフト ,  オーシージー ミクロエレクトロニクス インコーポレーテッド
Agent (1)： 萼 経夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993339657
Publication number (International publication number)：1994239937
Application date： Dec. 03, 1993
Publication date： Aug. 30, 1994
Summary：

【要約】【構成】式I,IIaおよびIIbの反復構造単位からなる重量平均分子量103 〜106 のポリマー、該ポリマーと酸発生剤(トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート等)との組成物、該組成物を用いたポジ型フォトレジスト、保護層、レリーフ構造体。【化1】(基の例:R1 ,R3 〜R6 =H、Y=直接結合、R2 =テトラヒドロピラニル,第三ブトキシカルボニル,第三ブチル,アリル、X=CH2 ,C2 H4 、R7=アセチル)【効果】遅延時間作用が大きく抑制され、高い熱安定性および解像度を有し、DUVポジ型フォトレジストとしての使用に好適である。

Claim (excerpt)：

次式I、IIaおよびIIb【化1】〔式中、R1 は水素原子またはメチル基を表し、Yは直接結合または次式III【化2】(式中、Zはフェニル核に結合された炭素原子数1ないし6のアルキレン基を表す)で表される2価の基を表し、OR2 は酸分解性の基を表し、その中でR2 は非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし6のアルコキシ基もしくはハロゲン原子によりモノ-もしくはポリ-置換された炭素原子数4ないし10の第三アルキル基、アリル基、シクロヘキセ-2-エニル基、炭素原子数6ないし14のアリール基または炭素原子数7ないし16のアルアルキル基を表すか、トリアルキルシリル基または次式IV-VII【化3】(式中、R8 は炭素原子数1ないし6のアルキル基、または非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし6のアルコキシ基もしくはハロゲン原子によりモノ-もしくはポリ-置換された炭素原子数6ないし14のアリール基もしくは炭素原子数7ないし16のアルアルキル基を表す)で表される基を表し、R3 およびR4 は互いに独立して水素原子、炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし6のアルコキシ基またはハロゲン原子を表し、R5 およびR6 は互いに独立して水素原子またはメチル基を表し、Xは炭素原子数1ないし6のアルキレン基を表し、そしてR7 は炭素原子数1ないし6のアルキル基、または非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし6のアルコキシ基もしくはハロゲン原子によりモノ-もしくはポリ-置換された炭素原子数6ないし14のアリール基もしくは炭素原子数7ないし16のアルアルキル基を表すか、または次式-CO-R8 (式中、R8 は式IVにおいて定義されたものと同じ意味を表す)で表される基を表す〕で表される反復構造単位からなる分子量(重量平均)MW 103 ないし106 を有するポリマー。

IPC (8)：

C08F 12/22 MJY ,  C08F 22/40 MNE ,  C08K 5/20 ,  C08L 25/18 LEK ,  C08L 33/24 LHT ,  C08L 35/00 LJW ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503