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J-GLOBAL ID：200903038030427745

被覆粉体の製造方法及びその装置

Inventor： 馬場 俊之 ,  葛下 弘和 ,  岩本 謙一 ,  佐々木 隆
Applicant, Patent owner： 三菱電線工業株式会社 ,  ヒラノ光音株式会社
Agent (1)： 藤本 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993082806
Publication number (International publication number)：1994272047
Application date： Mar. 16, 1993
Publication date： Sep. 27, 1994
Summary：

【要約】【目的】 プラズマCVD方式で粉体の熱劣化やプラズマによる損傷を防止でき均質なコーティング膜を有する被覆粉体を製造できる方法及び装置を得ること。【構成】 原料ガス及び反応ガスを用いて粉体上に原料ガスの分解反応物からなるコーティング膜を形成するにあたり、プラズマCVD方式で原料ガス又は/及び反応ガスをプラズマ化したのちそれを筒体を介し粉体層上に部分的に供給し、前記の粉体層を吹込ガスを介し粉体が循環する流動層とする被覆粉体の製造方法、並びに外部と連通するガス供給管(3)、ガス供給管を包囲する開口付の反応管(2)、反応管の外側に設けた高周波入力部(4)、反応管及び高周波入力部を収容する減圧容器(1)、前記ガス供給管の末端部近傍に粉体を保持する多孔性支持材(5)及び多孔性支持材にガスを供給して粉体を循環流動させるガス供給系(8)を有してなる前記被覆粉体の製造装置。

Claim (excerpt)：

原料ガス及び反応ガスを用いて粉体上に原料ガスの分解反応物からなるコーティング膜を形成するにあたり、プラズマCVD方式で原料ガス又は/及び反応ガスをプラズマ化したのちそれを筒体を介し粉体層上に部分的に供給すること、及び前記の粉体層を吹込ガスを介し粉体が循環する流動層とすることを特徴とする被覆粉体の製造方法。

IPC (7)：

C23C 16/50 ,  B22F 1/02 ,  C01G 9/08 ,  C09K 3/00 ,  C09K 11/02 ,  C09K 11/56 CPC ,  C01F 17/00