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J-GLOBAL ID：200903038035481934

整髪剤用基剤

Inventor： 小笠原 元見
Applicant, Patent owner： 大阪有機化学工業株式会社
Agent (1)： 朝日奈 宗太 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993301824
Publication number (International publication number)：1995149617
Application date： Dec. 01, 1993
Publication date： Jun. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 水および親水性有機溶剤に対し可溶性を呈し、エアゾール噴射剤との相溶性にすぐれ、また整髪剤に応用したばあい、頭髪にすぐれたくし通り性、光沢、しなやかな感触および良好なセット力を与えるカチオン性整髪剤用基剤を提供すること。【構成】 エチレングリコールモノアルキルエーテルの(メタ)アクリル酸エステル30〜70重量%、アミノ基を含有した(メタ)アクリル酸または(メタ)アクリルアミドの誘導体20〜50重量%、シロキシ基を含有した(メタ)アクリル酸の誘導体0.1〜10重量%ならびに(メタ)アクリル酸1〜20重量%を含有したモノマー成分を重合してなる整髪剤用基剤。

Claim (excerpt)：

一般式(I):【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基、R2 は炭素数1〜4のアルキル基を示す)で表わされるモノマー(A)30〜70重量%、一般式(II):【化2】(式中、R1 は前記と同じ、Xは-NH-基または酸素原子、R3 およびR4 はそれぞれ独立してメチル基またはエチル基、nは2または3を示す)で表わされるモノマー(B)20〜50重量%、一般式(III):【化3】(式中、R1 は前記と同じ)で表わされるモノマー(C)0.1〜10重量%、一般式(IV):【化4】(式中、R1 は前記と同じ)で表わされるモノマー(D)1〜20重量%を含有したモノマー成分を重合させてなる整髪剤用基剤。

IPC (2)：

A61K 7/11 ,  A61K 7/06